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用途广泛的正性KrF光刻胶
ArF (193nm)
用于干法和浸润式微显影以及负显影 (NTD) 的光刻胶材料
i-Line, g-Line 和宽带
用途广泛的光刻胶系列，适用于多种工艺流程，从0.30µm到>1.0µm的分辨率。
负性（聚异戊二烯基）
多样性的负性聚异戊二烯基光刻胶系统
e-Beam
正负e-Beam光刻胶产品系列，适用于多种电子束微显影应用
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