- 用于非反射性衬底的高级i-Line光刻胶
光刻胶系列设计用于在非反射性衬底上进行要求严格的关键尺寸（<350纳米）显影工艺：- OiR 620 系列
- OiR 674 系列
- 用于反射型衬底的高级i-Line光刻胶
为反射型衬底上的高分辨率（>350纳米CD）图案提供了快速选择方案：- OiR 674 系列
- GiR 1102 系列
- 多用途高分辨率i-Line光刻胶系列
为高产量、高分辨率（>500纳米CD）和稳健的图案化提供快速选项：- GIR 2700 系列
- OiR 305 系列
- OiR 906 系列
- OiR 907 系列
- 多用途交叉g-Line和i-Line光刻胶系列
为g-Line和i-Line和宽带（>800 nm CD）提供有效的解决方案：- HiPR 6500 系列
- HPR 510 系列
- 用于高反射衬底的光刻胶系列
具备抗漂白、高光密度和关键尺寸的控制能力：- OiR 906HD
- OiR 305HC
- HiPR 6500GH
- HiPR 6500HC
- 适用于较厚应用的i-Line光刻胶系列
适用于3至13µm 薄膜厚度的厚膜图形化：- FHi-560EP
- GiR-3114
- OiR 305
- OiR 908
适用于多种工艺流程，包括在多种衬底上实现0.30µm以下到>1.0µm的分辨率，光刻胶的容许厚度范围大。
