i-Line, g-Line 和宽带

适用于多种工艺流程，包括在多种衬底上实现0.30µm以下到>1.0µm的分辨率，光刻胶的容许厚度范围大。

• 用于非反射性衬底的高级i-Line光刻胶，光刻胶系列设计用于在非反射性衬底上进行要求严格的关键尺寸（<350纳米）显影工艺：
  • OiR 620 系列
  • OiR 674 系列
• 用于反射型衬底的高级i-Line光刻胶，为反射型衬底上的高分辨率（>350纳米CD）图案提供了快速选择方案：
  • OiR 674 系列
  • GiR 1102 系列
  • GiR 2201 系列
• 多用途高分辨率i-Line光刻胶系列，为高产量、高分辨率（>500纳米CD）和稳健的图案化提供快速选项：
  • GIR 2700 系列
  • OiR 305 系列
  • OiR 906 系列
  • OiR 907 系列
• 多用途交叉g-Line和i-Line光刻胶系列，为g-Line和i-Line和宽带（>800 nm CD）提供有效的解决方案：
  • HiPR 6500 系列
  • HPR 512
• 用于高反射衬底的光刻胶系列，具备抗漂白、高光密度和关键尺寸的控制能力：
  • OiR 906HD
  • OiR 305HC
  • HiPR 6517GH
• 适用于较厚应用的i-Line光刻胶系列，适用于3至11µm 薄膜厚度的厚膜图形化：
  • FHi-560EP 系列
  • FHi-570
  • OiR 305
  • OiR 908