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特点与优势
用于 193 nm 曝光的多种高分辨率微显影产品，包括干法和浸润式微影以及负显影
- 高产量
- 高分辨率
- 工艺窗口广
- 低缺陷水平
- 垂直剖面形貌
产品概要
- GAR 系列
GAR 系列产品适用于需要 193nm干式曝光微显影的多种应用 - PTD FAiR 系列
FAiR 系列产品适用于需要 193nm 浸润式曝光和正显影的多种应用 - NTD FAiR 系列
FAiR 系列产品适用于需要 193nm 浸润式曝光和负显影的广泛应用
ArF (193nm)
用于干法和浸润式微显影以及负显影 (NTD) 的光刻胶材料
