ArF (193nm) - 产品介绍

• GAR 系列
  GAR 系列产品适用于需要 193nm干式曝光微显影的多种应用
• FAiRS系列用于正性光刻工艺（PTI）
  FAiRS系列产品适用于多种需要193nm浸润式曝光和正性光刻工艺的应用。
• FAiRS系列用于负性光刻工艺（NTI）
  FAiRS系列产品适用于多种需要193nm浸润式曝光和负性光刻工艺的应用。

用于 193 nm 曝光的多种高分辨率微显影产品，包括干法和浸润式微影以及负显影

• 高产量
• 高分辨率
• 工艺窗口广
• 低缺陷水平
• 垂直剖面形貌