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先进的光刻胶供应商,提供多种微显影用的光刻胶产品
光刻胶产品线涵盖广泛的应用,包括宽带、g-line, i-line、248nm、193nm(干式和浸没式)、e-beam和 EUV 技术。该产品组合还包括负性显影使用的光刻胶产品,以满足下一代需求,包括双重图案化。
用于干法和浸润式微显影以及负显影 (NTD) 的光刻胶材料
用途广泛的正性KrF光刻胶
用途广泛的光刻胶系列,适用于多种工艺流程,从0.30µm到>1.0µm的分辨率。
多样性的负性聚异戊二烯基光刻胶系统
正负e-Beam光刻胶产品系列,适用于多种电子束微显影应用