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多样性的负性聚异戊二烯基光刻胶系统
多样性的的负性聚异戊二烯基光刻胶产品,适用于多种基板上的投影、临近和连接成像以及湿法蚀刻需求。
ArF (193nm)
用于干法和浸润式微显影以及负显影 (NTD) 的光刻胶材料
KrF (248nm)
用途广泛的正性KrF光刻胶
i-Line, g-Line 和宽带
用途广泛的光刻胶系列,适用于多种工艺流程,从0.30µm到>1.0µm的分辨率。
e-Beam
正负e-Beam光刻胶产品系列,适用于多种电子束微显影应用