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中国
Women working in lab wearing safety equipment

新兴钴金属研磨液

富士胶片电子材料有限公司的钴CMP 研磨液设计用于抛光钴和其它阻挡层金属,并在高级钴互连抛光工艺中对电路中的多种薄膜层进行平面化处理。

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