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全系列含金属离子杂质(MIC)和不含金属离子杂质(MIF)的显影液,用于正负光刻胶产品
我们提供一系列高纯度无金属离子(MIF)和含金属离子(MIC)显影液,适用于负性光刻胶、g线、i线及高端光刻胶的显影工艺。
溶剂
用途广泛的特种溶剂混合物,用于光刻胶洗边 (EBR)、返工、冲洗和预湿润应用。用于高级产品的微显影的高纯溶剂
光刻胶剥离剂
用于去除正性和负性光刻胶的溶剂型剥离剂