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silicon wafer

显影液 - 产品介绍

全系列含金属离子杂质(MIC)和不含金属离子杂质(MIF)的显影液,用于正负光刻胶产品

富士胶片电子材料公司提供即用型(RTU)和浓缩型正性显影液,适用于先进的正性光刻胶显影工艺,适合浸润式曝光和在线显影工艺。

产品概要

正性显影液是以TMAH为基底的显影液,拥有多种质量等级,包括用于先进半导体应用的超高纯度等级*1。产品有含表面活性剂和不含表面活性剂两种,亦可根据客户本地混配需求提供浓缩液。

  • 即用型产品
    • 不含表面活性剂的显影液(TMAH 2.38 wt%)
    • 含表面活性剂的显影液(TMAH 2.38 wt%)
  • 浓缩产品(需要客户稀释)
    • TMAH 24.9%显影液
    • 10%TMAH显影液*2 (含表面活性剂)

*1 专业术语
*2 浓缩TMAH和表面活性剂预混合以供客户稀释

功能与优势
  • 先进半导体应用的高纯度选择
  • 高产量制造用的浓缩液和槽车供货方案
  • EUV应用
  • 包装选项
    • 1000L桶(一次性或可回收)
    • 200L桶(一次性或可回收)
    • 槽车(视客户地点而定)
    • 4 x 4L瓶