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用于光刻工艺的多种湿法化学品
我们为光刻工艺提供用途广泛的化学品，包括预处理、晶圆斜面边缘清洗、清洗、显影、 光刻胶剥离、去除和冲洗。
全系列含金属离子杂质（MIC）和不含金属离子杂质（MIF）的显影液，用于正负光刻胶产品
用途广泛的特种溶剂混合物，用于光刻胶洗边 (EBR)、返工、冲洗和预湿润应用。用于高级产品的微显影的高纯溶剂
用于去除正性和负性光刻胶的溶剂型剥离剂
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