光刻胶剥离剂

富士胶片的Microstrip^®系列光刻胶剥离剂专为铝和铜工艺技术设计，具备高性能优势。

• 富士胶片的光刻胶剥离剂是为实现高性能、低成本和低环境/健康影响而设计的。
• 包装选项： 
  • 4 x 4L 瓶
  • 1 x 20L 罐
  • 200L 桶装（一次性/可回收）
  • 1000L 中型容器

铝工艺中用于去除正性光刻胶的溶剂型剥离剂

N-甲基吡咯烷酮

• Microstrip^® 2001 ：标准碱性光刻胶剥离剂

二甲亚砜(DMSO)基

• Microstrip^® 3001 ：用途广泛的体光刻胶剥离剂
• Microstrip^® 3200 ：弱酸性、无胺剥离剂，具有出色的金属兼容性
• Microstrip^® 6800 ：适用于单晶圆生产机台的光刻胶剥离剂，对高度交联的光刻胶具有改进的清洁性能

用于去除负性光刻胶的剥离剂

• Microstrip^® IV