高效水溶性刻蚀后清洁剂，适用于Al/SiO2和 Cu/low-k BEOL 工艺。
如需了解适合您工艺需求的FUJIFILM清洗剂的更多信息，请联系我们。
清洗液 - 产品介绍
用于清洗刻蚀后残留在铝和铜合金、抗反射层、SiO2和低电介质上的水溶性的清洗液。
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高效水溶性刻蚀后清洁剂，适用于Al/SiO2和 Cu/low-k BEOL 工艺。
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