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用于清洗刻蚀后残留在铝和铜合金、抗反射层、SiO2和低电介质上的水溶性的清洗液。
高效水溶性刻蚀后清洁剂,适用于Al/SiO2和 Cu/low-k BEOL 工艺。
适用范围包括去除合金、抗反射层和SiO2电介质等的蚀刻残留物 同时可和铜、低介电常数材料和超介电常数材料的大马士革工艺兼容。
蚀刻剂
专业的刻蚀液