我们提供不同浓度的稀释氢氟酸 (HF) 溶液、特种缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) - 含/不含表面活性剂、混合酸蚀刻剂 (MAE) 和特种金属蚀刻剂。
- 缓冲氧化物蚀刻剂
- 富士胶片拥有先进的能力来准确混合缓冲蚀刻剂，具有严格的检测规格和范围，有多种NH4F:HF比例可供选择
- 用于蚀刻二氧化硅薄膜
- 用于扩散前和金属化前的表面处理
- 由高纯度的49%氢氟酸和高纯度的40%氟化铵配制而成
- 可提供含和不含表面活性剂的产品
- 稀释氢氟酸
- 富士胶片拥有先进的能力，可以在严格的检测规格范围内准确混合稀释的氢氟酸
- 铝硅屑漂洗液
- 用于去除铝硅铜层蚀刻后残留的含硅残留物
- 特种金属蚀刻剂
- 为选择性去除特定金属层，富士胶片提供多种特种蚀刻剂，包括特种铝蚀刻剂以及用于铝金属化层的浸没式蚀刻剂——可选配或不配备富士胶片铝蚀刻表面活性剂（AES）定制配方。
