我们提供不同浓度的稀释氢氟酸 (HF) 溶液、特种缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) - 含/不含表面活性剂、混合酸蚀刻剂 (MAE) 和特种金属蚀刻剂。
产品概要
- 缓冲氧化物蚀刻剂
- 富士胶片拥有先进的能力来准确混合缓冲蚀刻剂,具有严格的检测规格和范围,有多种NH4F:HF比例可供选择
- 用于蚀刻二氧化硅薄膜
- 用于扩散前和金属化前的表面处理
- 由高纯度的49%氢氟酸和高纯度的40%氟化铵配制而成
- 可提供含和不含表面活性剂的产品
- 稀释氢氟酸
- 富士胶片拥有先进的能力,可以在严格的检测规格范围内准确混合稀释的氢氟酸
- 铝硅屑漂洗液
- 用于去除铝硅铜层蚀刻后残留的含硅残留物
- 混合酸蚀刻剂
- 用于硅(单晶和多晶)的各向异性蚀刻
- 特种焊盘蚀刻剂
- 用于蚀刻沉积的热分解和溅射的最终钝化玻璃,以暴露半导体焊盘以进行引线键合
- 可提供含有或不含我们的OHS表面活性剂的产品
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为了有选择地去除特定的金属层,富士胶片提供多种特殊蚀刻剂,包括
- 特种铝蚀刻剂: 用于铝金属化层的浸没式蚀刻剂 - 可选择性使用富士胶片铝蚀刻表面活性剂 (AES)
- 铬蚀刻剂: 一种用于铬层图案化的特殊混合物