蚀刻剂

我们提供不同浓度的稀释氢氟酸 (HF) 溶液、特种缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) - 含/不含表面活性剂、混合酸蚀刻剂 (MAE) 和特种金属蚀刻剂。

• 缓冲氧化物蚀刻剂 
  • 富士胶片拥有先进的能力来准确混合缓冲蚀刻剂，具有严格的检测规格和范围，有多种NH4F:HF比例可供选择
  • 用于蚀刻二氧化硅薄膜
  • 用于扩散前和金属化前的表面处理
  • 由高纯度的49%氢氟酸和高纯度的40%氟化铵配制而成
  • 可提供含和不含表面活性剂的产品
• 稀释氢氟酸 
  • 富士胶片拥有先进的能力，可以在严格的检测规格范围内准确混合稀释的氢氟酸
• 铝硅屑漂洗液
  • 用于去除铝硅铜层蚀刻后残留的含硅残留物
• 混合酸蚀刻剂 
  • 用于硅（单晶和多晶）的各向异性蚀刻
• 特种焊盘蚀刻剂
  • 用于蚀刻沉积的热分解和溅射的最终钝化玻璃，以暴露半导体焊盘以进行引线键合
  • 可提供含有或不含我们的OHS表面活性剂的产品

• 特种金属蚀刻剂

为了有选择地去除特定的金属层，富士胶片提供多种特殊蚀刻剂，包括

• 特种铝蚀刻剂: 用于铝金属化层的浸没式蚀刻剂 - 可选择性使用富士胶片铝蚀刻表面活性剂 (AES)

• 铬蚀刻剂: 一种用于铬层图案化的特殊混合物