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中国
silicon wafer

光敏 – 适用水性显影液 : 产品介绍

PBO基产品,为缓冲涂层和RDL而设计和优化

富士胶片的化学放大PBO产品提供高可靠性和低使用成本。

  • 基于PBO化学的高对比度、高性能材料
  • 可使用g-line、i-line或宽波段曝光工具光成像
  • 粘度低,可减少喷涂量
  • 优异的机械性能,实现高可靠性
  • 显影速度快,膜损失量少,产量高
  • 不含NMP