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silicon wafer

光敏 – 适用水性显影液

PBO基产品，为缓冲涂层和RDL而设计和优化

富士胶片的化学放大PBO产品提供高可靠性和低使用成本。

基于PBO化学的高对比度、高性能材料
可使用g-line、i-line或宽波段曝光工具光成像
粘度低，可减少喷涂量
优异的机械性能，实现高可靠性
显影速度快，膜损失量少，产量高
不含NMP