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易于操作，准确控制前驱体温度
高级Low K材料
用于 45/22 nm及以下节点的高级绝缘层材料
间隙填充
支持低介电系数的化学品
电介质和掺杂源
高纯度前驱体由先进的分析测试和生产提供支持
其他
氯源、增粘剂、蚀刻剂、清洁剂、还原剂
传输设备
设计采用开放架构的化学品输送系统，与众多化学品兼容
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