从最初用于广电的对轮式磁带,到家用型录像带,直至当前高容量的存储介质,富士胶片从未停止推动这一源于摄影领域的技术进步。创立于日本,富士胶片已成为拥有多数LTO生产份额的业内知名的介质厂商。
技术创新奠定更高容量的坦途
从1954年起,我们致力于创新研发更出色的磁性颗粒,来实现更高容量更薄的LTO磁带。
通过优化磁性材料,在相同面积上实现散布更多磁性材料。
因此,记录密度得以大幅提升,磁带容量也随之急剧增加。
相比于金属颗粒(MP)40-100纳米的尺寸,已应用于LTO6到LTO9的钡铁氧体(BaFe)仅为20纳米。尺寸仅为BaFe的60%或更小的新材料锶铁氧体(SrFe)已研发成功。
通过和IBM的共同研发,锶铁氧体(SrFe)已被证明是能够实现单盘580TB非压缩容量的未来技术。
降低磁性涂层的厚度
LTO磁带是由纳米级微粒汇集而成的。
NANOCUBIC 纳米立方技术持续演化。我们能够以纳米级微粒级别均匀散布较小化的磁性材料(图1)。该薄涂层技术能实现一种纳米级均匀且涂层平滑的薄膜(图2)。
Q1.LTO磁带的寿命有多久?
已通过在室温下模拟相当于50年的测试证明了其稳定的品质。
*鉴于操作环境和磁带机兼容度,推荐迁移至新磁带技术。
Q2.磁带的读写速度和传输速率是不是很慢?
A2.并非如此。其实磁带更快。需要传输的数据量越大,传输的速率就越快。
LTO9的读写数据传输速率达到了400MB/S,正由于这样的访问速度,磁带在传输大规模数据量时速度很快,且LTO9写入速度能保持400MB/S左右的高速。
Q3.磁带的撕扯和缠绕会导致大量出错吗?
A3.相比于数码线性磁带(DLT),现代LTO磁带的退返率不足其10%。
对于旧款磁带(如DLT),驱动器容易对其磁带边缘造成损伤。这导致了磁带断裂和缠绕。然而,随着磁带和磁带机的技术创新,对磁带造成物理伤害的机率微弱。导入流程改进以修正错误来减少影响。
Q4.还需要对磁带进行重绕吗?
A4.不需要。
以前信息记录在磁带上,他们需要通过重绕以防磁带黏连。
现在,由于在材料、磁性涂层稳定性、磁带绷紧度低(松弛卷带紧度)以及诸如背涂层技术方面的进步,即使磁带放置很久,也不会发生损伤。(图3)
图3.使用背涂层技术防止磁带扭曲
富士胶片生产磁带介质的品质信条
1.标准化环境=标准化品质
- 只要确保同一品质的原材料,并且每次都在同一环境下进行生产,就能实现产品的同一品质。
- 只要确保所有的生产环境、材料和行为都是标准化的,并且限制在规格范围内,就能实现生产的同一品质。
2.内置QA流程
- 我们的生产流程对错误零容忍:生产流程根据SOP保持标准化。
- 生产流程中,坏件无法进入下一阶段:从流程中将其去除,只有合格件才能够进入生产过程。